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Eksma 多階雙波長波片

簡要描述:Eksma 多階雙波長波片
在一次和二次Nd:YAG激光諧波下工作,延遲容差<λ/ 300。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2025-11-02
  • 訪  問  量:1207

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 多階雙波長波片

在一次和二次Nd:YAG激光諧波下工作,延遲容差<λ/ 300。

Ø同時(shí)操作一和二Nd:YAG激光諧波

Ø延遲公差<λ/ 300

Eksma 多階雙波長波片

產(chǎn)品型號

型號

延遲和波長

463-4120

λ @
1064 nm + λ/2 @
532 nm

463-4121

λ @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

463-4140

λ @
1064 nm + λ/4 @
532 nm

463-4141

λ @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

463-4210

λ/2 @
1064 nm + λ @
532 nm

463-4211

λ/2 @ 800 nm + λ @ 400 nm

463-4220

λ/2 @
1064 nm + λ/2 @
532 nm

463-4221

λ/2 @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

463-4240

λ/2 @
1064 nm + λ/4 @
532 nm

463-4241

λ/2 @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

463-4410

λ/4 @
1064 nm + λ @
532 nm

463-4411

λ/4 @ 800 nm + λ @ 400 nm

463-4420

λ/4 @
1064 nm + λ/2 @
532 nm

463-4421

λ/4 @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

463-4440

λ/4 @
1064 nm + λ/4 @
532 nm

463-4441

λ/4 @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于緩速器圓周上的刻面

通光孔徑

Ø17 mm
(other dimensions on request)

環(huán)安裝外徑

25.4 mm +0.0/ -0.2 mm

波片標(biāo)稱厚度

0.2÷1.2 mm

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度

波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 10 arcsec

增透膜

R < 0.5%

激光損傷閾值

5 J/cm2, 10 nsec, 1064 nm typical

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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